
Sawing Temperature in SiC Wafer Cutting: A Diamond Wire Saw Control Guide
Temperature is easy to treat as a secondary variable in SiC wafer cutting. A machine may report stable wire speed, the coolant tank may remain
Low-Stress Cutting Systems for Hard & Brittle Electronic Materials
Brittle electronic plates, including ceramic substrates, semiconductor wafers, and glass-ceramic components, present unique machining challenges due to their high hardness and low fracture toughness. Precision machining is required to achieve tight dimensional tolerances while avoiding surface damage and cracking.
Our diamond wire cutting systems excel at ultra-precise machining of hard brittle materials, achieving micron-level accuracy and minimal surface damage. The advanced cutting technology controls subsurface damage effectively, making it ideal for microelectronic components, power devices, and sensor manufacturing.
Engineered for the most demanding semiconductor and electronics applications, our systems feature high-rigidity frames and intelligent process control. They deliver stable, repeatable performance for R&D prototypes and high-volume production lines alike, meeting the strict quality standards of the 5G, aerospace, and medical electronics industries.
हमारे डायमंड वायर कटिंग सिस्टम कठोर, भंगुर इलेक्ट्रॉनिक प्लेटों की जटिल प्रसंस्करण के लिए डिज़ाइन किए गए हैं, जिनमें सिरेमिक सब्सट्रेट्स, सेमीकंडक्टर वेफर्स, और ग्लास-सिरेमिक घटक शामिल हैं। यह उन्नत कटिंग तकनीक न्यूनतम सतही क्षति के साथ अतिसूक्ष्म स्लाइसिंग प्रदान करती है, जो इसे माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक घटकों, पावर उपकरणों और सेंसर निर्माण के लिए आदर्श बनाती है। अनुकूलन योग्य कटिंग पथों और उच्च-कठोरता वाले मशीन फ्रेम के साथ, यह सबसे चुनौतीपूर्ण भंगुर सामग्रियों के लिए भी निरंतर सटीकता प्रदान करती है।.
| नहीं।. | पैरामीटर | विनिर्देश |
| 1 | मॉडल | टीसीक्यूएफ400एलएनसी-एफएम-एचएल |
| 2 | काटन का सिद्धांत | अनंत हीरे की तार / भौतिक काटना |
| 3 | काटने के कार्य | स्लाइसिंग / कोण और प्रोफ़ाइल कटिंग |
| 4 | अधिकतम वर्कपीस आकार (मिमी) | Φ600 मिमी, ऊँचाई 500 मिमी |
| 5 | कार्य-टेबल का आकार (मिमी) | Ø380 转台 |
| 6 | कटिंग समतलता सटीकता (मिमी) | 0.08 |
| 7 | सतही खुरदरापन (माइक्रोमीटर) | रे 0.8 माइक्रोमीटर |
| 8 | तार विनिर्देश (मिमी) | Ø0.65–1.0/2580 |
| 9 | तनाव प्रणाली | सतत तार तनाव नियंत्रण |
| 10 | गाइड व्हील की मात्रा | चार पहिये |
| 11 | चालक मोटर | सर्भो मोटर |
| 12 | तार की गति (मी/से) | 51मैक्स (समायोज्य) |
| 13 | कुल शक्ति (किलोवाट) | 2.8 |
| 14 | वोल्टेज | 220v 50Hz |
| 15 | नियंत्रण प्रणाली | विशेष रूप से विकसित टोंगचेंग टी32 प्रणाली |
| 16 | फुटप्रिंट (लंबाई×चौड़ाई×ऊंचाई)(मिमी) | १३५०×१०६६×१९६८ |
| 17 | कुल वजन किग्रा | 720 |

Temperature is easy to treat as a secondary variable in SiC wafer cutting. A machine may report stable wire speed, the coolant tank may remain

A diamond wire can continue moving long after it has stopped cutting economically. It may not be broken, alarms may remain clear, and the machine

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