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    Halbleiter-Linie

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    • Späneträger & Verpackungsmaterial schneiden
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    Keramische Linie

    • Schneiden von Aluminiumnitrid (AlN)-Substraten
    • Schneiden von Teilen aus Zirkoniumdioxid und Strukturkeramik
    • Verarbeitung elektronischer Keramiksubstrate
    • Bearbeitung von hochharten keramischen Bauteilen
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    Optische Linie

    • Saphir-Substrat Feinschneiden
    • Schneiden von Quarzkristall und optischem Glas
    • Bearbeitung optischer Infrarot-Komponenten
    • Präzise optische Waferbearbeitung
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    PV-Energie-Linie

    • Schneiden von Mono-/Poly-Siliziumbarren
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    • Neue Energie Batterie Material schneiden
    • Bearbeitung von Hilfsmaterial für Photovoltaik-Module
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    Glas & Substrat Linie

    • Schneiden von Dünnglasplattenprofilen
    • Schneiden von Schaltungssubstrat und PCB-Basismaterial
    • Spröde Elektronikplatten Präzisionsbearbeitung
    • Hochpräzises Schneiden von Basismaterial
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    Fortgeschrittene Materiallinie

    • Graphit- und Kohlenstoffmaterial: Maßgeschneidertes Schneiden
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    • Unregelmäßige Bearbeitung von Werkstücken mit hoher Härte
    • Neuartige funktionale Materialverarbeitung
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