Schneiden von SiC und Verbindungshalbleitern


Hochpräzise Diamantdraht-Schneidsysteme zum Schneiden von Substraten

SiC-Blöcke, Substrate aus Verbindungshalbleitern und Materialien mit großer Bandlücke sind beim Hochgeschwindigkeitsschneiden erheblichen mechanischen Belastungen und thermischen Einwirkungen ausgesetzt. Um eine hervorragende Oberflächenqualität und minimale Schäden unter der Oberfläche zu gewährleisten sowie Absplitterungen oder Mikrorisse zu vermeiden, die zu einem Ausfall der Bauelemente führen können, benötigen Halbleiterhersteller äußerst stabile Schneidprozesse und eine präzise Prozesssteuerung. Nur so lässt sich eine zuverlässige Produktion hochwertiger Wafer mit hoher Ausbeute erreichen.

Die Verarbeitung von SiC und Verbindungshalbleitern ist mit extrem hohen Material- und Produktionskosten verbunden. Etwa 30% der Gesamtkosten für die Substratherstellung entfallen auf ineffizientes Schneiden, Materialverlust und geringe Ausbeute und nicht allein auf die Rohstoffe. Die Auswahl der richtigen Diamantdraht-Schneidsysteme für bestimmte Anwendungen kann daher die Produktionskosten erheblich senken und die Effizienz steigern.

Hochpräzise Diamantdrahtsägen werden eingesetzt, um harte, spröde Barren unter stabiler Zug- und Vorschubsteuerung in dünne Wafer zu schneiden. Ihre Betriebsparameter sind auf ein stabiles Prozessfenster mit konstanter Drahtspannung, geringen Vibrationen und einer schmalen Schnittfuge optimiert.

SiC- und Verbindungshalbleiter-Verarbeitung

ewirexon SiC- und Verbindungshalbleiter-Diamantdraht-Schneidsystem

Die neuen Diamantdraht-Schneidsysteme für SiC und Verbindungshalbleiter von ewirexon wurden speziell für das hochpräzise Schneiden von SiC-Blöcken und Substraten mit großer Bandlücke entwickelt, bei denen eine extrem hohe Waferausbeute und minimale Oberflächenbeschädigungen erforderlich sind. Die neue SiC-Serie erzielt in diesem Anwendungsbereich eine deutlich höhere Materialausbeute als Konkurrenzprodukte. Der Einsatz unserer Schneidsysteme ermöglicht Einsparungen bei den Produktionskosten für Halbleiterfabriken. Ein weiterer positiver Nebeneffekt ist die Reduzierung von Materialabfall und Oberflächenschäden.

  • Mögliche Einsparungen bei den Produktionskosten durch eine höhere Materialausbeute der Schneidsysteme in typischen SiC-Verarbeitungslinien
  • Optimale Nutzung der Ressourcen
  • Einsparungen bei den Materialkosten in der Produktion durch minimale Schnittfugenverluste und Schäden unter der Oberfläche
  • Flexible und kompakte Anlagenauslegung dank modularem Aufbau und geringer Stellfläche
  • Einfachere Handhabung bei Installation und Wartung dank benutzerfreundlicher Bedienung und Fernüberwachung
  • Senkung der Wartungskosten durch eine längere Lebensdauer des Diamantdrahts und der Maschinenkomponenten
  • Kostengünstige schlüsselfertige Systemlösungen dank maßgeschneiderter Prozessparameter und vollständiger Systemintegration
  • SiC- und Verbindungshalbleiter-Verarbeitung
  • Herstellung von Leistungshalbleiterwafern
  • Blockzerlegung und Substratbearbeitung
  • Schneiden von Materialien mit großer Bandlücke
  • F&E-Labore und Pilotproduktionsanlagen
  • Hochmoderne Verpackungsanlagen
NEIN.ParameterSpezifikation
1ModellTCQF400LNC-FM-HL
2SchneidprinzipEndloser Diamantdraht / Mechanisches Schneiden
3SchneidefunktionenZuschneiden / Winkel- und Profilzuschnitt
4Maximale Werkstückgröße (mm)Φ600 mm, Höhe 500 mm
5Größe der Arbeitsfläche (mm)Drehteller Ø380
6Genauigkeit der Schnittplanarität (mm)0.08
7Oberflächenrauheit (μm)Ra 0,8 μm
8Drahtspezifikation (mm)Ø 0,65–1,0/2580
9SpannsystemRegelung der konstanten Drahtspannung
10Anzahl der Führungsräder4 Räder
11AntriebsmotorServomotor
12Drahtgeschwindigkeit (m/s)51Max (einstellbar)
13Gesamtleistung (kW)2.8
14Spannung220 V, 50 Hz
15SteuerungssystemMaßgeschneidertes Tongcheng T32-System
16Abmessungen (L × B × H) (mm)1350 × 1066 × 1968
17Bruttogewicht kg720
ewirexon - ewirexon precision diamond wire cutting system

Fallstudie: Verarbeitung von SiC und Verbindungshalbleitern

Diese Fallstudie zeigt, wie die optimale Auswahl von ewirexon-Diamantdrahtschneidesystemen dazu beitragen kann, die Waferausbeute bei der SiC- und Verbindungshalbleiterverarbeitung um bis zu 15% zu steigern und damit die Produktionskosten von Leistungshalbleiterfabriken nachhaltig zu senken. Darüber hinaus sorgt die SiC-Schneidlösung von ewirexon im Vergleich zu herkömmlichen Schneidverfahren für minimale Oberflächenbeschädigungen, weniger Materialverlust und einen höheren Produktionsdurchsatz.

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